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氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏
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氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏

氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏應用
真空設備在半導體行業中的應用愈來愈廣泛,例如真空鍍膜設備(蒸發,濺射),干法雷設備(ICP,RIE,PECVD),熱處理設備(合金爐,退火爐),摻雜設備(離子注入機等)這些真空設備作為半導體技術發展不可或缺的條件必將起到越來越重要的作用。上海伯東德國 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀現已廣泛應用于半導體設備檢漏。
半導體設備及材料需要檢漏原因
1、半導體設備要求高真空,比如磁控濺射臺、電子束蒸發臺、ICP、PECVD等設備。出現泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間,耗時耗力;
2、在高真空環境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現泄漏周圍環境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染,對半導體的特性改變并破壞其性能,因此在半導體器件生產過程中必須進行氦質譜檢漏
3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體,經過氦質譜檢漏后,在低漏率真空條件下,這些氣體不易外泄,設備能及時抽走未反應氣體和氣態反應產物,保障工作人員安全和大氣環境。
4、芯片封裝,一旦出現泄漏,芯片就會失效。
綜上所述,上海伯東德國 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀在半導體行業起著至關重要的作用。
氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏應用

半導體設備及材料檢漏方法:

半導體氦質譜檢漏有兩種方法

1.真空法   2.吸槍法
上海伯東客戶某大型半導體廠商使用德國 Pfeiffer 吸槍便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 102 S檢漏。
氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏應用
氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏應用
吸槍便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 102 S
主要優勢
高靈敏度:1x10-7 mbar.l/s或0.1 ppm的氦氣。高水平的解決方案帶來高診斷性和高靈敏性的測試 
測試范圍廣:從0.1 ppm到100 %氦氣
氦質譜檢漏儀快速反應時間:一秒鐘內(使用5 m/16 ft吸槍探頭)
快速的恢復時間
杰出的穩定性:氦氣的信號穩定性對小型漏點檢測十分關鍵。
氦質譜檢漏儀3種示蹤氣體選擇:使氦氣(He3)與氫氣(H2)檢漏成為可能。
通過自動清零(忽略本底)功能使氦氣背景信號增強,確保氦氣信號始終保持在零以上。
卓越的特性加上電子時代的最新標準
語音分析器增添操作界面的功能
1號與2號燈絲獨立連接,方便分別更換。
氦質譜檢漏儀便攜性:便于運輸(干泵系統)、所有附件均內置在一個隔間,并可通過簡單連接進行操作。
使用方便:熟悉ASM102S的操作只需簡單的幾分鐘時間:自動校準、自動清零(忽略本底)功能使敏感度更高、氦信號直接讀出功能,無須操作者進行釋讀。

上海伯東主營產品:德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵干式真空泵羅茨真空泵旋片真空泵;應用于各種真空環境下的真空計氦質譜檢漏儀質譜分析儀以及美國考夫曼公司 KRI 離子源 離子槍 霍爾源美國 HVA 真空閥門Polycold 冷凍機等。

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